EUV 노광기술 연구센터에 저상형 제진대를 설치하였습니다.

EUV 마스크 검사 장치의 추가 구성을 위하여 기존 사용 중 이던 저상형 제진대 높이에 맞춰 추가 설치 하였습니다.

마스크 정밀 검사를 위해 EUV 마스크 검사 장치 내부의 정렬 시스템을 조절하여 EUV 광의 경로와 EUV 마스크 위치를 통제하여야 하는데, 미세 진동에도 광 경로가 틀어질 위험이 있어 저상형 제진대를 설치하였습니다.