Vibration Isolation Solution                                                                                                                                                                  미세 진동 제어 솔루션

정밀 분석 · 측정 · 제조의 기본 

미세 진동 제어 솔루션

진동 제어(Vibration Control)의 필요성

 일반 실험실 및 산업 공간에는 고배율/고해상도 이미지 분석 장비, 레이져 기반의 연구 시설, 반도체 제조 설비 및 생명 공학 연구 시설 등 미세 진동에 민감한 다양한 장비들이 설치 되어 있습니다. 실험실 및 산업 공간은 외부 환경에 의해 다양한 진동원을 가지고 있으며, 이런 진동원은 이미지 분석의 흐릿한 이미지, 정밀 측정의 오차 발생, 반도체 제조의 생산 수율 저하 및 레이져 및 생명공학 실험의 잘못 결과를 초래할 수 있습니다. 다양한 실험장비 및 생산 시설이 구축 되어진 환경은 인간의 지각 임계값 보다 훨씬 낮은 진동 수준을 유지하여 안정된 환경을 제공하여야 합니다.

진동 발생원(Source of Vibration)

 주요 두 가지 진동 발생원은 외부 진동원(바닥 진동원)과 장비 자체 움직임에 의한 내부 진동원으로 구분되어집니다. 외부 진동원(바닥 진동원)은 아래 이미지처럼 다양한 원인으로 진동이 발생합니다. 각각의 장비 및 시설은 일반적인 주파수 범위 내에서 작동하며, 이러한 모든 진동은 기계의 바닥에 전달되어 장비 및 설비의 전체적인 기계 성능을 저하시키는 주요 원인되기 때문에 바닥 품질은 최종 장비/설비 성능에 주요한 핵심 요인 됩니다.

진동 제어 솔루션(Vibration Control Solution)

 미세 진동 제어 솔루션은 외부 진동원의 영향을 최소화하기 위한 최적의 솔루션을 제공하는 것입니다. 진동 기준 곡선(VC Curves)에서 명시하는 

장비 또는 설비의 요구 환경을 갖추기 위하여 광학 테이블, 제진테이블 및 독립기초제진대 등 미세 진동 제어 기술 솔루션을 활용하여 분석/측정/ 

제조 시설 장비 등의 진동원의 영향을 최소화여 최적화된 환경을 제공하는 것입니다.

진동 기준 곡선 (Vibration Criteria Curves)

산업 현장에서 사용되는 진동 기준은 “BBN Criteria” 또는 “VC Curves를 많이 활용하고 있습니다. 특히, 정밀한 실험, 분석, 측정 및 민감함 반도체 설비 환경 (바닥공사, 배관, 환기시스템)을 구축하는데 아래의 곡선을 기준으로 하고 있습니다. BBN Criteria과 VC Curves는 동일한 곡선이지만, VC Curves가 좀 더 최근에 개선된 곡선으로 미세 진동 제어 기술에 대응 할 수 있는 기준을 제시하고 있습니다.